同位素分析儀-甲醛分析儀-北京環球同創科技發(fā)展有限公司

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PI2114 (H₂O₂, 21CFR)

Picarro PI2114 H₂O₂氣體濃度分析儀可以确保 GMP 制藥生産中過(guò)氧化氫的超低殘留。高效活性藥物成(chéng)分(HPAPI)、大分子(生物制劑)藥物以及無菌灌裝與後(hòu)續工藝需要采用隔離且無菌的生産環境。氣化過(guò)氧化氫(H₂O₂)是隔離制藥生産中殺菌的主要處理方法。如果在殺菌和通風後(hòu)或在生産流程中的任何階段殘留的H₂O₂水平過(guò)高,藥物産品就(jiù)會(huì)發(fā)生氧化和降解。這(zhè)不僅代價昂貴,還(hái)可能(néng)影響藥物的安全性。

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  • 美國(guó)職業安全與健康研究所( NIOSH)在29 CFR

     1900中規定一般工業工人對(duì)H2O2的建議接觸限值(REL)爲百萬分之一(ppm)。其它适用标準可能(néng)因特定工業和接觸時(shí)間而有所不同,但它們Picarro PI2114 H2O2氣體濃度分析儀可以确保 GMP 制藥生産中過(guò)氧化氫的超低殘留。高效活性藥物成(chéng)分(HPAPI)、大分子生物制劑藥物以及無菌灌裝與後(hòu)續工藝需要采用隔離且無菌的生産環境。氣化過(guò)氧化氫H2O2是隔離制藥生産中殺菌的主要處理方法。如果在殺菌和通風後(hòu)或在生産流程中的任何階段殘留的H2O2水平過(guò)高,藥物産品就(jiù)會(huì)發(fā)生氧化和降解。這(zhè)不僅代價昂貴,還(hái)可能(néng)影響藥物的安全性。

    通常在ppm範圍内。雖然對(duì)人類的健康和安全來說(shuō)已經(jīng)足夠,但ppm的水平仍然過(guò)高,無法防止藥物氧化,也無法維持藥物效能(néng)、安全性和穩定性。

    美國(guó)食品和藥物管理局(FDA)要求在使用H2O2進(jìn)行滅菌的隔離應用中,最大殘留水平爲100 ppb。爲避免氧化,一些生物制藥商設置了低至30 ppb的水平。以ppm爲單位來測量接觸限值的健康和衛生監測儀不能(néng)确保H2O2水平低至足以避免藥物産品氧化。

    PI2114 詳細介紹圖0要求生産活動在隔離環境下進(jìn)行的包括:

    · 高效活性藥物成(chéng)分(HPAPI

    · 大分子藥物(生物制劑)

    · 無菌操作(制劑灌裝至成(chéng)品)

    符合藥品生産質量管理規範(GMP)的隔離生産環境包括:

    · 超淨間

    · 限制進(jìn)出隔離系統(RABS)

    · 隔離器

     

    下圖所示,Picarro PI2114氣體濃度分析儀具有近五個數量級的線性動态範圍,可以持續測量H2O2水平。這(zhè)确保用戶:

    · 測量低至3.3 ppbH2O2水平,以避免氧化,也有助于維持藥物的效能(néng)、安全性和穩定性

    · 從通風周期早期開(kāi)始監測殘留的H2O2平,以确定其何時(shí)可達到足夠低的水平, 從而開(kāi)始可靠的生産作業

    · 在整個生産流程中持續監測殘留的H2O2,以确保其不會(huì)因材料的廢氣釋放而上升至危險水平


     

     

     

    制藥GMP合規性

    PI2114 分析儀符合制藥生産的GMP要求。軟件符合21 CFR Part 11條款關于電子記錄和電子簽名方面(miàn)的規定,可定義管理員、操作員和技術員的用戶角色和訪問權限。分析儀可配置成(chéng)以數字格式輸出,或通過(guò)可選的模拟輸出將(jiāng)測量數據自動輸出至安全的SCADA控制系統或數據記錄設備。

    PI2114 分析儀幾乎不需要校準或維護。然而,GMP指導原則要求用戶定期驗證系統性能(néng)。雖然Picarro 通過(guò)H2O2全蒸發(fā)法提供了一種(zhǒng)驗證方案,但它需要濕化學(xué)法和8至24個小時(shí)才能(néng)完成(chéng)。作爲替代方案,Picarro開(kāi)發(fā)了一種(zhǒng)使用甲烷作爲替代氣體的驗證方案。與H2O2全蒸發(fā)方法相比,替代氣體方法能(néng)夠更容易和快速地驗證分析儀的精度, 并能(néng)生成(chéng)一個有電子簽名的報告。

    Picarro 還(hái)提供了安裝确認(IQ)和操作确認(OQ)的檢查表,使分析儀能(néng)夠快速方便的安裝并投入使用,并符合GMP要求。

    PI2114 詳細介紹圖3 

    PI2114分析儀确保了過(guò)氧化氫的超低殘留水平,以幫助避免藥物被(bèi)氧化, 并保障了GMP制藥生産應用中藥物的效能(néng)、安全性和穩定性,其中包括高效原料藥(API) 和生物制劑的生産以及無菌灌裝與後(hòu)續工藝(如上圖所示)。

  • 1. Picarro PI2114 H2O2氣體分析儀 21CFR part 11

    2. Picarro G2114 H2O2氣體分析儀 (研究用)


  • • 高精度又易用的光腔衰蕩光譜(CRDS)分析儀

    • 無須化學(xué)藥品或易耗品

    • 沒(méi)有活動組件,無需頻繁維護

    • 确保3.3 ppb的檢測下限以适應最嚴苛的生物制藥中通氣周期的終點濃度。

    • 實時(shí)監測H2O2 以保證産品在整個生産周期中的安全。

    • 長(cháng)期穩定性和專利的激光波長(cháng)監測技術減少了校準頻度。

    • 已被(bèi)業界認同的技術(生物制藥、半導體以及能(néng)源行業)。

    • GMP合規的快速易行的性能(néng)驗證方法,使用市售的代理氣體。

    • 内置軟件符合GMP和21 CFR Part 11 關于數據訪問權限與安全的規定。

    • 與最新的SCADA系統兼容 (4 – 20 mA 模拟輸出和數字輸出)。


  • PI2114 性能(néng)指标

    精度 (1σ, 10 /300 ) @ 1ppm [H2O2]

    3 ppb/1 ppb

    下檢出限 (300 , 3σ)

    <3 ppb

    準确度

    ±5% 的讀數

    歸零準确度 (1 )

    -5 ppb/+10 ppb

    測量範圍

    0100 ppm

    測量間隔

    ~10 sec

     

    響應時(shí)間 @ 1 ppm [H2O2]

    下降沿時(shí)間 (90–10%): <1 min

    上升沿時(shí)間 (10–90%): <1 min

     

    PI2114 系統指标

    樣(yàng)品池溫度壓力控制精度

    溫度: +/- 0.005 °C & 壓力: +/- 0.0002 atm

    環境溫度範圍

    +10 to +35 °C(工作時(shí)),-10 to +50 °C(儲存條件)

    環境濕度

    <99% 相對(duì)濕度,非冷凝條件

    樣(yàng)品壓強

    300 to 1000 Torr (40 to 133 kPa)

    樣(yàng)品濕度

    <99% 相對(duì)濕度,在40°C 非冷凝條件下,無須幹燥

    樣(yàng)品溫度

    -10 to +45 °C

    樣(yàng)品流量

     

    < 1slm @ 760 Torr,無須過(guò)濾

    尺寸

    儀器主機: 43.2 x 17.9 x 44.5 cm

    外置泵: 19 x 10.2 x 28 cm

    重量

    33.2 千克

    功耗

    100 240VAC,47 - 63 Hz(自動探測)

    主機:<260W @ 開(kāi)機  110W @ 穩定運行

    外置泵:80W

    連接方式

    ¼” Swagelok®

    其他被(bèi)測氣體

    H2O, CH4


010-51627740

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