Picarro PI2114 H₂O₂氣體濃度分析儀可以确保 GMP 制藥生産中過(guò)氧化氫的超低殘留。高效活性藥物成(chéng)分(HPAPI)、大分子(生物制劑)藥物以及無菌灌裝與後(hòu)續工藝需要采用隔離且無菌的生産環境。氣化過(guò)氧化氫(H₂O₂)是隔離制藥生産中殺菌的主要處理方法。如果在殺菌和通風後(hòu)或在生産流程中的任何階段殘留的H₂O₂水平過(guò)高,藥物産品就(jiù)會(huì)發(fā)生氧化和降解。這(zhè)不僅代價昂貴,還(hái)可能(néng)影響藥物的安全性。
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